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第304章 集成电路(1 / 5)

集成电路

休息室里,汤定元见夏培肃骑着自行车来赶了过来,便站了起来,门口的夏培肃一个刹车,将自行车停好,接着抬步走进了房间里。

“汤同志,原来是你啊。”夏培肃笑着伸出了手。

汤定元与之一握,也笑着说道:“没想到在这里见到夏同志,来给你介绍一下,这位是二机部半导体研究室的谢希德同“你好”、”你好。”两人都是女同志,倒是显得亲切了许多。

简单介绍,而后一番登记,领了来防人员牌子,这才跟着夏培肃往研究中心走去,三人,一人推着自行车,汤、谢二人在一旁步行,就见汤定元有些好奇的问道:“夏同志,你不是调到了上海的研究所工作吗?怎么进了一家公司?”夏培肃笑道:≈ot;以前是在上海工作,后来进了华为公司,今年初我们整个研究院陆续都搬了过来,这才不过一个月呢。

她大概介绍了自己的工作情况,而后便问道:“两位这次到华为来是?”谢希德显得有些急切的说道:“我们看到了人民日报上的报道,一番了解才知道是华为搞出了硅单晶,便向部里进行了申请,获批前来参观学习的。”

夏培肃微微一笑,她知道这些人是来错地方了,硅单晶是集团总部研究院搞出来的,不过此时她也不好直接说,便将人带到了研究中心的会客室。

这时总经理何光远听到消息也赶了过来,一番交流,何光远得知了他们的来意,不过这事他并没有直接答应,而是将两人暂时安顿了一下,便向总部打去了电话。

方叶听到二机部半导体研究室派了两位同志来参观学习,也便没有阻止,接到批准后的何光过多,这才来到了会客室,而后对二人说道“两位同志,经过批准,二位可以参观硅晶圆实验室,不过它不在这里,两位今天先休息一日,明天我们会派车送两位过去。”

≈ot;啊,不是在华为吗?”汤定元发现自己找错了地方。

何光远笑了笑答道:“不是在这里,不过两位旅途劳累,暂时先在合肥休息一下,明天就可以过去了。”

“那好。”汤定元也便答应了下来天,接着两人便在何光远的带领下,简单对华为进行了参观,当然研究中心里的各个研究单位,他们并没能进得去。

此时,研究中心的半导体研究中心里,华为半导体研究所联合微电子、集成电路技术研究所、光刻技术研究所、集成电路材料研究所,四大单位正在紧锣密鼓的开展实验,由于这是中国第一次集成电路研究,大家都在摸索,因此四大所的负责人都赶了过来,既是解决问题,也是来相互交流学习的。

只见光刻技术研究所的唐九华,将一枚完成了打磨的硅单被放置到了光刻机上,他一-边放置上基材,一边向众人介绍起;了光刻机的基本运作原理。

唐九华说道:“这是一台接触式光刻机,主要采用曝光原理,由紫外线灯作为曝光光源,采用掩膜版进行图像生成,当光源通过掩膜版照射到硅片基材上以后,会对硅片上的曝光区进行烧蚀,形成电路线路所需的图像。

唐九华说完便盖上了遮光板,然后按下了光刻机的启动键,只听到机器里发出一阵步进电路轻吟悦耳的蜂鸣声,林兰英、王守觉几人纷纷观察了起来,不过由于遮光版盖得很严实,他们什么也看不到。

而在机器内部,第一遍曝光扫描之后,电机复位,但并没有没停止,而是又出现了第二次蜂鸣声,如此一直进行了三次,之后机器才停了下来,就见林兰英说道:≈ot;要连续扫描三次吗?”唐九华点了点头,回道:“主要是我们现在的紫外线灯照射工艺还需要提升,之前采用小的功率,发现不行,后来又采用了更大的功率,由于功率过高,将材料都烧焦了,又不成,经过多轮改进,才选取了现在的45瓦功率,然后采用多轮曝光解决问题。

光刻完成,唐九华戴上了手套,用一个橡胶吸柄将硅片取了出来,轻轻的放到了一旁的托盘上,然后端着托盘来到了显微镜下,开始了检查,显微镜中,曝光的线路全是烧着的痕迹,但是材料并没有被去除,这也是接触式光刻机的缺点,它并不能像激光那样,直接去除材料。

一番检查,烧着的线路线宽很宽,差不多03至04毫米,之所以线宽如此宽,还是因为没有图形发生器的原因,因此掩膜版上的线路,是王守觉带着研究员,采用刻刀在放大镜下手工刻出来的。

雕刻完成的菲林再放到显微镜下,用特制的探针刀,一点一点的修饰,将线路里未去除的材料全部清理干净,并且将毛边休整整齐,这是为了防治刻蚀后电路有未曝光的区别形成黑点,这此黑点在接下来的电镀工艺过程中,就可能会造成线路上的空穴,而毛边则会造成电路接触不良。

完成这些工序之后,由于菲林的尺寸很大,不能直接形成掩膜版,因此还需要将图片缩小,这一部采用的是照相机微缩照片的工艺,将菲林底片放置在特制的照相设备上,然后进行照相曝光,形成50倍左右的微缩底片,再将底片曝光到掩膜之上,

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